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可改进EUV光刻工艺 传三星正测试GCB设备 或成先进制程降本利器

可改进EUV光刻工艺 传三星正测试GCB设备 或成先进制程降本利器

《科创板日报》9月3日讯 据韩媒TheElec爆料，三星正在测试由东京电子（TEL）提供的气体团簇光束（GCB）设备，以期改进其极紫外（EUV）光刻工艺。 ...
ASML总裁傅恪礼：人工智能的发展正成为半导体复苏的强大推动力

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7月17日，光刻机龙头ASML（阿斯麦）披露2024年第二季度财报。该季度，ASML实现净销售额62亿欧元，毛利率为51.5%，净利润达16亿欧元。 ...

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