光刻设备 – 编程日记

首页 › 文章标签 "光刻设备"

三星电子NRD-K半导体研发综合体进机将导入ASML High NA EUV光刻设备

asml euv nrd 三星电子光刻设备半导体国产光刻机知名企业

三星电子NRD-K半导体研发综合体进机将导入ASML High NA EUV光刻设备

《科创板日报》20日讯，三星电子举行了位于器兴园区的NRD-K新半导体研发综合体的进机仪式。 ...

fengjun
热点
2024-11-20
30

苏大维格：泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向

光刻设备半导体国产光刻机激光直写苏大维格

苏大维格：泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向

财联社11月6日电，苏大维格在投资者关系活动记录表中称，泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向。对于是否为国产光刻设备提供产品或技术支持的提问，公司表示，请投资者参考其往期公告。 ...

fengjun
热点
2024-11-06
21

永新光学：公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备

pcb 光刻设备光刻镜头光通讯半导体永新光学

永新光学：公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备

每经AI快讯，9月6日，永新光学在互动平台表示，目前公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备，生产的核心光学模组已应用于光刻检测系统。 ...

fengjun
热点
2024-09-06
19

日本宣布开发出新技术，可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和…

光刻设备日本紫外光耗电量

日本宣布开发出新技术，可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和…

8月13日消息，日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。 ...

fengjun
热点
2024-08-13
23