光刻设备 – 编程日记

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苏大维格：泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向

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苏大维格：泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向

财联社11月6日电，苏大维格在投资者关系活动记录表中称，泛半导体封装是公司激光直写系列光刻设备的重点拓展方向。对于是否为国产光刻设备提供产品或技术支持的提问，公司表示，请投资者参考其往期公告。 ...

fengjun
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2024-11-06
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永新光学：公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备

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永新光学：公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备

每经AI快讯，9月6日，永新光学在互动平台表示，目前公司生产的光刻镜头已应用于PCB光刻设备，生产的核心光学模组已应用于光刻检测系统。 ...

fengjun
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2024-09-06
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日本宣布开发出新技术，可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和…

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日本宣布开发出新技术，可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和…

8月13日消息，日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。 ...

fengjun
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2024-08-13
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